第九十四章 光刻机比想象的容易（2/3）

。

三天内卫明一共搞了十几个。

然后让蒲伟才他们，把这些装置，塞入到了控制系统中，以极高精度要求，组装到了一起。

再开启了试运行。

“释放锡滴，初始频率每秒1滴。”蒲伟才进行指挥说道。

“开始释放！”

“两次击打成功，摊平形状完美，激发效果完美！”

“增加释放频率。”

“每秒50次试验成功。”

“每秒500次试验成功！”

“每秒5150次试验成功！追平最高纪录。”操作员声音微颤的道。

“继续增加！往上加高一点！”

蒲伟才也开始激动了，这才第一次进行调试而已，居然就追平了上一套零件不断调试数百次创造的最高纪录？

“每秒5500次试验成功，已经创造新的纪录！”

“再加！”

每秒7000

每秒9000

每秒1万

……

一直加到每秒2万，满足使用频率要求。

所有人都被震惊到麻木，依然是取得成功！

“再加，再往上加！”

每秒3万

每秒4万

每秒4万5

每秒5万！

“锡滴释放频率达到上限，特么还是取得成功！”操作员毫无形象的狂喊。

“转化光强是额定光强的25倍！”

向广林眼睛通红的大吼道“这意味着这台光刻机处理晶元的效率，至少艾思迈euv的两倍以上，我们一台，能顶他们两台！”

“你们别叫！”

蒲伟才高高挥起了后，盯着持续时间后的数据，极力压制情绪的说道“看看每秒5万滴锡滴，每秒10万次击打的情况下，这个系统能稳定工作多长时间？你们别吵，你们的噪音，可能影响它的发挥。”

所有人都安静了下来。

屏住了呼吸。

目光都死死盯上了持续时间。

5分钟

15分钟

第29分38秒

由于累积误差越来越大，没有纠偏系统进行纠正，整个系统终于自动停止了运动。

啪！

蒲伟才右拳用力轰击自己左掌，满脸涨红的说道“3分钟就足够了，原本只要3分钟，就不用配套设计非常复杂的纠偏系统了，没想到它坚持了足足半个小时！我们只要设计一套非常简单的纠偏系统，就能让它长期稳定的工作了，整个系统的复杂度至少能降低10，给我们省下大量的时间！”

“太厉害了，太神奇了！”

作为项目负责人，他自己开始大呼小叫“光源问题彻底解决了，双工台现成就有，镜头完全能用，我们的euv光刻机，完成度至少超过90！”

“我们完全看到胜利的希望了！”

说着，他泪如坝崩，几欲捧面大哭一场。

毕竟十几年了，这一次，他是真的看到希望了，就在他的面前，已经触手可及。

见他如此，跟他一个团队的其他成员，也都擦着眼角，发出呜呜的声音。

“还没真成功呢，眼泪不如留到庆功宴。”

一个略有些扫兴的声音传来。

却听卫明说道“蒲博士，刚才你还一脸抗拒的样子，怀疑我打磨过的东西不能用，现在呢？信我说的话了吧，零件问题，对我公司不是个问题，你说的技术难点，感觉也不怎么难。”

“没错没错。”

擦了把眼泪的蒲伟才，露出一张童真笑脸“卫总你说的没错，只要卫总出马，光刻机，完全没有任何什么难点，我相信在卫总的带领下，我们能解决一切技术问题！”他这次是真心服了，眼里只有崇拜